氟化铝靶材AlF3靶材磁控溅射靶材

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AI AI 产品介绍
京迈研生产的氟化铝靶材为高纯度磁控溅射材料,纯度达99.99%,杂质含量控制在0.05%以下。产地北京,金属材质,粒度300,可根据客户需求定制规格。适用于半导体、光学镀膜等精密工业领域,确保薄膜沉积质量与工艺稳定性。建议采购前确认具体应用参数匹配度,建议批量采购以优化成本。
本介绍由 AI 基于产品标题与规格自动生成,请以实际产品为准。
规格参数
产地 北京
材质 金属
牌号 靶材
用途 磁控溅射靶材
粒度 300
规格 根据客户要求定制
主要成分 99.99%
杂质含量 0.05%
品牌/厂家 京迈研
产品详情

氟化铝靶材AlF3靶材磁控溅射靶材

品牌/厂家:京迈研;牌号:靶材;材质:金属;规格:根据客户要求定制;产地:北京;用途:磁控溅射靶材;主要成分:99.99%;杂质含量:0.05%;粒度:300;发货地:通州区

氟化铝(AlF3)常为无色或白色结晶,性质稳定,不溶于水,不溶于酸和碱,不被氢还原,强热不分解但升华,与液氨或浓硫酸共加热,或者与氢氧化钾共熔均无反应,加热到300-400℃能被水蒸气部分分解为氟化氢和氧化铝。主要用于炼铝生产,以降低熔点和提高电解质的导电率。酒精生产中用作起副发酵作用的抑制剂。也用作陶瓷釉和搪瓷釉的助熔剂和釉药的组分。还可用作冶炼非铁金属的熔剂。

中文名 氟化铝 化学式 AlF3 相对分子质量 83.98

熔点(℃):1040 相对密度(水=1):1.91 沸点(℃):1537

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